面板蝕刻製程

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最后将此第二开口封闭,使光干涉式反射结构被密封于基板以及保护结构之间。

tw | tw[PDF] 清洗製程時機:幾乎所有製程之前或後,. 份量約佔所有製程步驟的30% ... 蝕刻、植離子、灰化。

... fl ). 大量液體產生溢流(overflow),. 或用過濾方法去除粒子.[PDF] 銅蝕刻液及氯酸鈉蝕刻液「本質與酸不相容之熱危害探討2018年4月28日 · 化學反應,其利用蝕刻液的化學反應將未覆蓋光阻區域的基材移除,並在完成蝕刻反. 應後,由溶液攜走腐蝕雜質達到剝除效果。

面板廠等高科技產業因製程需求 ...[PDF] TW I394071B1 (45) 公告日:中華民國102 (2013年04月21日機發光二極體面板的製程之外,再進行一道形成圖案化感光介電層的製程,即可將光學感測元件整 ... I394071. TW I394071B1. -100. 100...OLED 觸控. 面板. 102・・・基板.[DOC] 其他(國際會議)) 參加2009年國際微製程與奈米材料研討會心得報告根據IC Insight觀察,若以MPU HP(Half-Pitch)及GL Cycle(Gage Length)製程微縮程度為技術 ... 此特定之圖案可供後續製程,如離子佈植、金屬蒸鍍,電漿蝕刻之用。

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