Endura® Volta™ CVD Cobalt | Applied Materials

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Volta CVD Cobalt 系統為擴展銅導線技術推出新材料,將這項製程帶入新時代。

它通過改善銅浸潤來促進銅晶種層覆蓋,並能夠形成便於修復不連續形貌和形成堅固 ... 應用材料公司的 Endura® Volta™ CVD Cobalt 系統使公司能夠在CVD 領域保持技術領先地位,在超過 15 年的銅阻擋層/晶種層 (CuBS) 開發中首次改變材料,以實現持續的高效能互連微縮。

這種史無前例的技術可以沉積厚度不足 20Å 的晶種增強型襯層和選擇性覆蓋層,從而改善 2Xnm 及以下節點的互連線良率與可靠性。
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