三星台积电EUV 光刻机之战推演：榨干ASML 未来5 年产能 ...
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编者注：本文作者汤之上隆先生为日本精密加工研究所所长，曾长期在日本制造业的生产第一线从事半导体研发工作，2000 年获得京都大学工学博士学位，之后一直从事和半导体行业有关的教学、研究、顾问及新闻工作者等工作，曾撰写《日本 “半导体”的失败》、《“电机、半导体”溃败的教训》、《失去的制造业：日本制造业的败北》等著作。
本文是汤之上隆先生近日发表于 eetimes.jp 上的一篇长文。
全文如下：最先进的 EUV（极紫外线）光刻机始于 1997 年，其全面开发在 20 多年后的 2018 年第三季度。
随后，台积
